Код товара: 5523862835
Новинка
Новинка
Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
Тип книги:
Печатная книга
О товаре
Перейти к описанию
Автор на обложке
0
Тип обложки
Мягкая обложка
Тип книги
Печатная книга
Язык издания
Английский
Количество страниц
354
О книге
Введение в книгу : A timely 2023 AI, data, and analytics book focused on Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes. It is ideal for learners, developers, researchers, and b
1 979 ₽ 2 424 ₽
Магазин
181 подписчик
Auroramn
Перейти
4.7
Чат
Заказы
2.9 K
О магазине
Часто задаваемые вопросы
Описание
Введение в книгу : A timely 2023 AI, data, and analytics book focused on Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes. It is ideal for learners, developers, researchers, and business-minded technical readers who want to understand important concepts and turn them into practical skills. With 354 pages, it gives readers enough depth for structured learning and practical reference.
#профессиональнаялитература
- Артикул
- 5523862835
- Автор на обложке
- 0
- Тип обложки
- Мягкая обложка
- Тип книги
- Печатная книга
- Язык издания
- Английский
- Количество страниц
- 354
- Размеры, мм
- 251*179*25
- Вес товара, г
- 683
- ISBN
- 978-1032386706
Подборки товаров в категории Научная и научно-популярная литература
Отзывы о товаре
0
Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
Рейтинга пока нет. Он формируется на основе актуальных отзывов на заказанные и оплаченные товары
Как правильно задавать вопросы?
Будьте вежливы и спрашивайте о товаре, на карточке которого вы находитесь
Если вы обнаружили ошибку в описанием товара, воспользуйтесь функцией
Как отвечать на вопросы?
Отвечать на вопросы могут клиенты, купившие товар, и официальные представители.
Выбрать «Лучший ответ» может только автор вопроса, если именно этот ответ ему помог.